ASML’s nieuwe TWINSCAN NXT geeft sterke impuls aan volgende fase in de productie van halfgeleiders

• ASML

Veldhoven, Nederland, 16 oktober 2008 - ASML Holding NV (ASML) kondigde gisteren innovaties aan in zijn TWINSCAN^TM  lithografie platform die belangrijke verbeteringen bieden in overlay en productiviteit. Door deze nieuwe stap kan de halfgeleiderindustrie haar baanbrekend werk om steeds geavanceerdere en goedkopere computerchips te ontwerpen, verder uitbouwen. Het TWINSCAN NXT platform is ook geschikt voor opkomende dubbele patroontechnieken die producenten nodig hebben om de kleinste chipkenmerken te verminderen tot 42 percent.

U vindt alle extra informatie in het Engelstalige bericht.

Voor afbeeldingen of extra informatie kan u contact opnemen met:
Pieter De Wit - Leads United - +32-3-466 01 88 - asml@leadsunited.com